¼¿ï°úÇбâ¼ú´ëÇб³ ±Û·Î¹úÀ¶ÇÕ»ê¾÷°øÇаú MSDEÀü°ø ÇкΰúÁ¤ ±è½Ãȯ ¾¾(»çÁø, Áöµµ±³¼ö ¾ÈÈ¿¼®)°¡ Áö³ 3¿ù 18ÀϺÎÅÍ 22ÀϱîÁö Á¦ÁÖ¿¡¼ ¿¸° ¡¸4th International Tribology Symposium of IFToMM 2017¡¹ÀÇ Æ÷½ºÅÍ ¹ßÇ¥ ºÎ¹®¿¡¼ 'Best Poster Award'¸¦ ¼ö»óÇÏ¿´´Ù.
³ª³ëÇÁ·Îºê(Nano Probe)¿¬±¸½Ç ¼Ò¼ÓÀÇ ±è½Ãȯ ¾¾´Â ÀϹݴëÇпø ½º¸¶Æ®»ý»êÀ¶ÇսýºÅÛ°øÇаú ¿£ÅÍ·¦(Enter Lab.)¿¬±¸½Ç ¾çº´Âù ¾¾(Áöµµ±³¼ö ¾ÈÁöȯ)¿Í °øµ¿¿¬±¸¸¦ ÁøÇàÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç, À̹ø ±¹Á¦ÇÐȸ¿¡ "Scratch Behavior of ZrO2 Thin Films Prepared by Atomic Layer Deposition Method on Silicon Wafer" ÁÖÁ¦·Î Âü°¡ÇÏ¿© ¼ö»óÇÏ¿´´Ù.
ÇÑÆí, À̹ø ±¹Á¦ ½ÉÆ÷Áö¾öÀº 'Á¦1ȸ Korean-Tribology ±¹Á¦ ½ÉÆ÷Áö¾ö'°ú ¿¬°èÇÏ¿© Àü ¼¼°è À¯¼ö ´ëÇп¡¼ 200¿© ¿¬±¸ÆÀÀÌ Âü°¡ÇÏ¿© ±×µ¿¾È ¿¬±¸ÇÑ °á°ú¸¦ ¹ßÇ¥ÇÏ°í °øÀ¯ÇÏ´Â ÀÚ¸®·Î ¸¶·ÃµÆ´Ù.